Doktorand i oorganisk kemi

Doktorand i oorganisk kemi - deponering av tunna filmer av halvledare med kemisk metodik vid Institutionen för materialkemi på Ångströmlaboratoriet.

Deponering av tunna filmer av halvledare med kemisk metodik:
Tunna filmer av olika material spelar en central roll i vårt samhälle idag.Filmernas tjocklekar varierar allt efter tillämpningarna från några atomlager till några tusendels millimeter.Bland tillämpningarna kan nämnas elektronik, sensorer, solceller, slitstarka skikt, skyddsbeläggningar av olika slag.

För att framställa dessa skikt finns många olika metoder.I detta projekt studeras kemiska mekanismer för att deponera halvledarmaterial från gasfasen.I forskningsarbetet ingår förutom att deponera de olika materialen att analysera tillväxtdata samt att allsidigt karaktärisera de framställda materialen med röntgendiffraktion, olika mikroskopier samt ytanalyser.

Akademisk grundexamen i kemi eller teknik krävs.Tidigare erfarenheter av forskning och utveckling inom detta område i sin helhet eller i delar är en merit.

Ansökan skall innehålla ett brev där den sökande beskriver sig själv, sina meriter och forskningsintressen samt CV, kopior av akademiska betyg, exjobb, ev publikationer samt minst ett rekommendationsbrev.

Bestämmelser för doktorander återfinns i Högskoleförordningen 5 kap, 1-7.

Upplysningar om denna anställning lämnas av prof.Mats Boman, tel.